突发！DUV，荷兰限制出口！

　　当地时间3月8日，荷兰宣布正式加入美国在半导体行业对中国的限制行列。

　　昨日消息：传：日系光刻胶断供！背后：日韩正在联手！美日韩荷围堵中国半导体产业链正在形成包围。

　　荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher致议会函中透露，荷兰计划对半导体技术出口实施新的限制，这些限制将在夏季之前实施。

　　在致函中，ASML需要申请出口许可证才能装运其最先进光刻机。（并不单纯指EUV、DUV，能做先进制程的光刻机都算最先进。）

　　但ASML将其解释为“关键浸没式光刻设备”，ASML将其定义为TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸没式光刻系统。

　　荷兰贸易部长致议会函

　　▲荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher致议会函

　　关于宣布先进半导体制造设备出口管制措施的议会信函

　　Schreinemacher部长（对外贸易和发展合作）向众议院通报了先进半导体生产设备领域的国家额外出口管制措施。

　　1、致议会函（翻译）

　　我（荷兰贸易部长Liesje Schreinemacher）谨此信通知你的众议院，并代表外交部长向你的众议院通报在先进半导体生产设备领域准备采取的国家额外出口管制措施。半导体对于未来的军事和民用应用具有重要的战略意义。荷兰在全球价值链中发挥着重要作用。鉴于技术发展和地缘政治背景，政府得出结论认为，国家安全有必要扩大对特定半导体生产设备的现有出口管制。为此，政府将在多边框架内提交提案，旨在确保这些高质量技术受到国际监督。与此同时，政府还将在国家和欧盟层面采取必要措施。

　　先进半导体技术的出口管制框架如2022年12月1日给议会的信中所述，政府已为半导体技术出口管制制定了额外的战略框架。在这方面，以国家间安全为出发点确定了三个战略目标，即：；

　　1、防止荷兰货物造成不必要的最终用途，如军事用途或大规模杀伤性武器；

　　2、防止不必要的长期战略依赖

　　3、保持荷兰技术领先地位

　　值得注意的是，政府认为这一出口管制框架并非真空，而是对半导体价值链更广泛承诺的一部分。这些措施包括在上述框架内保护某些技术的措施，例如投资测试（安全测试法、投资、并购）和知识安全领域的措施。同时，需要采取措施保持技术领先地位。例如，《芯片法案》是专门针对欧洲半导体行业制定的。有关投资环境的更多信息，请咨询经济事务和气候部长

　　在评估出口许可证申请时，将根据这三项原则逐案进行具体评估。政府分析这些目标中的一个或多个受到危害的风险，特别要考虑到出口产品的特性、产品的适用性、最终用户和目的国。

　　用于制造半导体的技术越来越先进，出口这些产品对国家间安全的影响也在发生变化。这也适用于该部门尚未检查的技术和货物。

　　鉴于技术的发展，政府得出结论，先进的半导体生产设备需要额外的出口管制措施。荷兰还与国际合作伙伴举行了关于在出口这种技术时确保国家间安全的会谈。

　　额外的国家出口管制措施涉及半导体生产周期中非常具体的技术，荷兰在其中具有独特的领先地位，例如最先进的深紫外（DUV）浸没光刻和沉积。这些技术与其他地方制造的某些先进技术相结合，在先进半导体的生产中发挥着至关重要的作用。

　　为了避免不必要的价值链中断，并考虑到国际水平的竞争环境，我们已经尽可能谨慎和精确地（通过手术）选择了额外的控制措施。

　　新条例最好在多边环境下采取额外的出口管制措施，以便这些措施最有效；荷兰将在相关的多边出口管制制度瓦森纳安排中提交提案。这些建议以及出口管制制度中讨论的内容都是保密的。西澳州的决定是在协商一致的基础上做出的。然而，目前达成共识的可能性很小。地缘政治环境的变化预计会影响该政权，因为俄罗斯联邦也是该政权的成员，可以阻止该提议。欧盟随后自动将该制度最终通过的提案纳入附件一，即包含所有受管制货物和技术的《欧洲双重用途条例》附件。

　　由于荷兰认为出于（国际）国家安全原因，有必要尽快控制这项技术，因此政府还将通过检察官制度建立一个国家控制清单，与多边进程并行并相辅相成。

　　政府计划在Staatscourant发布夏季先进半导体生产设备的部级法规。

　　2、ASML：那些光刻机不受影响？

　　当地时间3月8日，荷兰光刻机大厂ASML通过官网发布了《关于额外出口管制的声明》称，荷兰政府于当天发布了有关即将对半导体设备出口进行限制的更多信息。这些新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和部分浸没式光刻设备。

　　ASML强调，荷兰政府新出台的额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻设备，而只涉及所谓的“最先进”设备。

　　尽管ASML尚未收到有关“最先进”确切定义的任何其他信息，但ASML将其解释为“关键浸没式光刻设备”，ASML将其定义为TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸没式光刻系统。

　　ASML指出，主要关注成熟节点的客户可以继续使用不太先进的浸没式光刻工具。

　　ASML预计，新出台的额外的出口管制措施并不会对其此前发布的2023财年的财务展望或去年底投资日上宣布的长期愿景产生重大影响。

　　DUV光刻机被用于生产28nm及更成熟制程的芯片，理论上最高能制备7nm。

　　▲ASML DUV光刻机型号一览（图源：ASML）

　　那么问题来了， 这一台TWINSCAN NXT:1980Di光刻机，能生产多少纳米的芯片？

　　如上图所示，这是ASML官网上关于这一台TWINSCAN NXT:1980Di的介绍，其中在分辨率方面，写到是大于等于38nm。

　　那么意思就是只能生产38nm工艺的芯片么？其实并不是的，是指一次曝光的分辨率，事实上光刻机是可以进行多次曝光的。理论上依然可以达到7nm，只是步骤更为复杂，成本更高，良率可能也会有损失，晶圆厂用这一台光刻机，大多是生产14nm及以上工艺的芯片，很少去生产14nm以下的工艺，因为良率低，成本高，没什么竞争力。

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